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일본 유일의 대규모 공간 대응
데시컨트 제습 방식을 이용한 오리지널 정제기
부스 내 가스를 순환시켜 수분 농도와 산소 농도가 1ppm 이하의 질소 환경을 구축하는 장비.
유기 EL 디스플레이(OLED) 제조 공정 등의 대규모의 질소 환경이 필요한 환경에서 사용되고 있습니다.
특징
1. 대풍량(최대 2300m3/h) 대응
2. 대기 드라이 모드 포함
3. 멀티 부스 제어 대응
사양표
| GPU-1000IG | GPU-1600IG | GPU-2300IG | ||
|---|---|---|---|---|
| 수분 농도(ppm) | 1 ppm以下 | |||
| 산소 농도(ppm) | 1 ppm以下 | |||
| 유량(m3/h) | 1000 | 1600 | 2300 | |
| 정제기 외형 치수(mm) |
길이(L) | 4000 | 4600 | 4800 |
| 폭(W) | 1500 | 1800 | 1840 | |
| 높이(H) | 2600 | 2560 | 2560 | |
| 칠러 ※1 외형 치수(mm) |
길이(L) | 1250 | 1250 | 1600 |
| 폭(W) | 900 | 900 | 1050 | |
| 높이(H) | 1050 | 1050 | 1350 | |
| 최대 대응 부피(m3)※2 | 100 | 160 | 230 | |
※1 정제기에는 칠러 유닛이 포함됩니다.
※2 기동 시간에 따라 대응 부피는 다릅니다.
용도
- 유기 EL(OLED)
- 리튬 이온 전지
- 전고체 전지
- 반도체
